■表面技術フォーラム優秀講演賞一覧
関西フォーラムでは，第２回大会より若手研究者の発表（発表年度当初に40才以下の方を対象）に対して，
優秀講演賞を選定し，表彰してまいりました。
第9回 関西表面技術フォーラム 優秀講演賞について
フォーラムでは，若手研究者・技術者・学生の発表を応援するため，優秀講演
の表彰を行っております．
審査対象は40才未満で，発表申込み時の登壇者が対象となっております．
審査は下記を基準に行いますので，登壇発表者のみなさまは奮ってご発表ください．
１）発表の仕方
２）パワーポイントなどのプレゼンテーション資料（概要は含めない）
３）質疑応答
４）内容の新規性
５）学術的な意義（学術講演の場合）もしくは工業的な寄与（技術講演の場合）
優秀な講演者３名を表彰いたします．
過去の優秀講演賞の受賞者は下記のとおりです。若手研究者・技術者の方々の発表を応援します。
| 第８回関西表面技術フォーラム （2006年12月7日〜8日 近畿大学１１月ホール小ホール） |
| １．優秀講演賞 「構造化されたPtNi合金微粒子の作製」 (阪府産技研*、大阪府立大学**) ◎西村 崇*、森河 務*、横井昌幸*、井上博史** ２．優秀講演賞 「ＩＴＯナノ粒子ペーストによる透明導電性薄膜の回路形成」 (奥野製薬工業*、巴製作所**、阪市工研***) ◎竹村康孝*、古田晋也**、柏木行康***、山本真理***、中許昌美*** ３．優秀講演賞 「銅微細配線の形成を目的とするマイクロコンタクトプリンティングの応用」 （甲南大） ◎尾山祐斗、赤松謙祐、縄舟秀美 |
| 第７回関西表面技術フォーラム （2005年12月６日〜７日 立命館大学びわこ･草津キャンパス） |
| １．最優秀講演賞 「工業用純アルミニウムへのジンケート処理と無電解ニッケル-リンめっき皮膜の密着性」 （岡山県工技センター）○村上浩二、日野実、平松実、（京大）長村光造、（岡山理科大）金谷輝人 ２．優秀講演賞 「Fe-W合金めっき皮膜の熱特性」 （野村鍍金） ○濱田隆弘、石田幸平、池田篤美、（阪府産技研）中出卓男、森河務 「電解析出ZnOの電気的特性の評価」 （立命館大理工） ○大谷慎士氏、松岡政 |
| 第６回関西表面技術フォーラム （2004年12月7日〜8日 立命館大学びわこ･草津キャンパス） |
| １．最優秀賞（電気鍍金研究会５０周年記念賞） 「ABSアロイ系樹脂を用いたクロム酸エッチングフリーめっきと密着メカニズム」 (奥野製薬工業) ○長尾敏光，佐藤一也，徳田勇治，中岸 豊 ２．優秀賞（学術講演） 「p型Cu2O膜の光誘起化学析出」 (同志社大院工，大阪市工研*，京大院工**) ○水野高太郎，稲葉稔，田坂明政 伊崎昌伸*，品川 勉*，千金正也*，邑瀬邦明**，粟倉泰弘** ３．優秀賞（技術講演） 「AZ91Dマグネシウム製品への導電性陽極酸化処理の開発」 （堀金属表面処理工業，岡山工技セ*，岡山理科大**) ○西條充司，日野 実*，平松 実*，村上浩二*，金谷輝人** |
| 第５回関西表面技術フォーラム （2003年12月3日〜4日 京都大学宇治キャンパス） |
| 1 クロムめっきにおけるアノード特性 (オテック株式会社) ○宮阪一郎，(阪府産技研)中出卓男，森河 務 2 Co(?U)化合物を還元剤とする中性無電解銅めっき浴の無隔膜電解再生 (甲南大学) ○森川祐司，赤松謙祐，縄舟秀美，(?渇t晶千躰技術開発センター)中村弘喜 3 ヒドラジンを還元剤とする無電解純ニッケルめっきの物性制御 (姫路工業大学) ○横山敦之，濱田隆弘，伊藤 潔，福室直樹，八重真治，松田 均 |
| 第４回関西表面技術フォーラム （2002年12月10日〜11日 京都大学宇治キャンパス） |
| 1 室温強磁性透明半導体の溶液化学的形成 (同志社大学工学部) ○瀧野敦史, 田坂明政，(大阪府立工専)藤田直幸，(大阪市工研) 伊崎昌伸 2 高反応性金ナノ粒子の合成とアミド結合形成による固体基板への固定化 (甲南大学理工学部) ○長谷川潤，池田慎吾，赤松謙祐，縄舟秀美，(神戸大学工学部)片山博之，小澤文幸 3 環境対応めっきプロセスについて (奥野製薬工業株式会社) ○今村真琴，岡田純，佐藤一也 |
| 第３回関西表面技術フォーラム （2001年12月4日〜5日 甲南大学） |
| 1 泳動電着法によるバインダーフリー炭素材料膜の作製とリチウム二次電池用負極への応用 (シャープ) ○宇井幸一 2 シリコン基板上への光アシストによるニッケル析出 (京大エネ研) ○笹野順司,作花哲夫,尾形幸生，(エアランゲン大)Patrik Schmuki 3 金属−酸化物同時電析法で作製したグラニュラ薄膜の構造と磁気特性 (大阪府立工専)森 雄介, ○藤田直幸，(大阪市工研) 伊崎昌伸，(豊橋技科大) 井上光輝 |
| 第２回関西表面技術フォーラム （2000年12月12月12日〜13日 甲南大学） |
| 1 ULSI銅微細配線の形成を目的としたコバルト(?U)化合物を還元剤とする中性無電解銅めっきの析出機構 (甲南大学理学部)○小幡雄一郎，縄舟秀美，水本省三，(松下テクノリサーチ)村上義樹 2 オゾンによるステンレス鋼の表面電荷特性の改質と易洗浄化処理 (岡山県工技セン)○福崎智司，浦野博水，竹原淳彦，平松実 3 低汚染型アクリルシリコン塗料の表面分析 (鐘淵化学工業) ○松尾陽一 |
（第2回関西表面技術フォーラムで創設）